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Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)

簡要描述:Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)
薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想選擇。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:912

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品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)


Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)

薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想選擇。

薄膜偏振片以45°入射角分離或組合s偏振和p偏振分量。它們設計用于高能激光器。偏振片由UV FS制成,具有很高的激光損傷閾值,在1064 nm處達到10 J / cm2。

我們提供可在45°入射角下工作的圓形標準和高消光比(Tp:Ts:> 1000:1)偏振片。

產品型號

型號

材料

波長

尺寸

偏振效率

消光比

 

420-1242i45HE

UV FS

343 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1242i45

UV FS

343 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1512i45HE

UV FS

343 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1512i45

UV FS

343 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1252i45HE

UV FS

355 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1252i45

UV FS

355 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1502i45HE

UV FS

355 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1502i45

UV FS

355 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1244i45HE

UV FS

515 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1244i45

UV FS

515 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1514i45HE

UV FS

515 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1514i45

UV FS

515 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1254i45HE

UV FS

532 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1254i45

UV FS

532 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1504i45HE

UV FS

532 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1504i45

UV FS

532 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1248i45HE

UV FS

1030 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1248i45

UV FS

1030 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1518i45HE

UV FS

1030 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1518i45

UV FS

1030 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1238i45HE

UV FS

1053 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1238i45

UV FS

1053 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1538i45HE

UV FS

1053 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1538i45

UV FS

1053 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1258i45HE

UV FS

1064 nm

ø 25.4 x 3 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1258i45

UV FS

1064 nm

ø 25.4 x 3 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

420-1508i45HE

UV FS

1064 nm

ø 50.8 x 6 mm

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

 

420-1508i45

UV FS

1064 nm

ø 50.8 x 6 mm

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

 

 

材料

UV FS

表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔徑

> 90%

入射角

45°±2°

直徑公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光損傷閾值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard series)

>1000:1 (for HE series)

 EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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