簡要描述:Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍很廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術,因此生長的ZnSe作為高光學質量的材料可用于制造光學組件。
詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡
硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍很廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術,因此生長的ZnSe作為高光學質量的材料可用于制造光學組件。
Eksma 硒化鋅(ZNSE)透鏡
產品介紹
Ø在可見光譜的紅色端吸收低
Ø不吸濕
Ø在實驗室環(huán)境中相當穩(wěn)定
硒化鋅(ZnSe)是紅外應用中受歡迎的材料。由于透射范圍非常廣,可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術,因此生長的ZnSe作為高光學質量的材料可用于制造大功率IR激光器的光學組件(窗口片,反射鏡,透鏡)。
產品型號
平凸
型號 | 直徑 | 焦距 | |
561-6122 | ø 12.7 mm | 25.4 mm | Plano-Convex |
561-6192 | ø 19.1 mm | 38.1 mm | Plano-Convex |
561-6193 | ø 19.1 mm | 50.8 mm | Plano-Convex |
561-6251 | ø 25.4 mm | 50.8 mm | Plano-Convex |
561-6252 | ø 25.4 mm | 63.5 mm | Plano-Convex |
561-6253 | ø 25.4 mm | 76.2 mm | Plano-Convex |
561-6254 | ø 25.4 mm | 101.6 mm | Plano-Convex |
561-6255 | ø 25.4 mm | 127 mm | Plano-Convex |
561-6256 | ø 25.4 mm | 150 mm | Plano-Convex |
561-6257 | ø 25.4 mm | 200 mm | Plano-Convex |
561-6258 | ø 25.4 mm | 254 mm | Plano-Convex |
561-6265 | ø 25.4 mm | 500 mm | Plano-Convex |
561-6275 | ø 25.4 mm | 1000 mm | Plano-Convex |
561-6382 | ø 38.1 mm | 63.5 mm | Plano-Convex |
561-6385 | ø 38.1 mm | 127 mm | Plano-Convex |
561-6388 | ø 38.1 mm | 190.5 mm | Plano-Convex |
561-6502 | ø 50.8 mm | 127 mm | Plano-Convex |
561-6765 | ø 76.2 mm | 254 mm | Plano-Convex |
半月板
型號 | 直徑 | 焦距 | 類型 |
565-6122 | ø 12.7 mm | 38.1 mm | Meniscus |
565-6251 | ø 25.4 mm | 25.4 mm | Meniscus |
565-6252 | ø 25.4 mm | 38.1 mm | Meniscus |
565-6253 | ø 25.4 mm | 50 mm | Meniscus |
565-6255 | ø 25.4 mm | 63.5 mm | Meniscus |
565-6256 | ø 25.4 mm | 75 mm | Meniscus |
565-6257 | ø 25.4 mm | 100 mm | Meniscus |
565-6258 | ø 25.4 mm | 127 mm | Meniscus |
565-6382 | ø 38.1 mm | 63.5 mm | Meniscus |
565-6385 | ø 38.1 mm | 127 mm | Meniscus |
565-6388 | ø 38.1 mm | 254 mm | Meniscus |
565-6502 | ø 50.8 mm | 127 mm | Meniscus |
565-6765 | ø 76.2 mm | 254 mm | Meniscus |
物理性質
晶體類型 | 立方體 |
密度g / cm3 | 5.27 |
熔點,℃ | 1525 |
折射率@ 8-13 µm | n = 2.417-2.385 |
折射率@ 10.6 µm | n = 2.403 |
透射帶,微米 | 0.6÷22 |
體積吸收系數cm-1 @ 10.6 µm | 0.6-1.0×10-3 |
線性熱膨脹系數,°C-1 | 8.56×10-6 |
規(guī)格
材料 | ZnSe |
表面質量 | 40-20 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
直徑公差 | +0.0 -0.13 mm |
厚度公差 | ±0.1 mm |
焦距公差 | ±2% @ 10.6µm |
鍍膜 | both surfaces AR coated @ 10.6 µm, |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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